Begründung und Optimierung eines Dünnschichtmodells zur Prognose optischer Eigenschaften oxidischer Beschichtungen durch in-situ Überwachung des Aufdampfprozesses.
Ein Dünnschichtmodell zur Prognose optischer Eigenschaften oxidischer Beschichtungen wurde entwickelt. Dies dient zur Simulation von Beschichtungsprozessen unter Berücksichtigung prozesstypischer Abscheidefehler. In Betracht gezogen werden dabei Schwankungen in der Schichtdicke und den optischen Konstanten für jede virtuell abzuscheidende Schicht, wobei eine Stategie entwickelt wurde, die Eingangsdaten für die Simulation experimentell zu ermitteln. Der Vergleich mit durchgeführten Beschichtungsprozessen dient zur Verifikation der Simulation.
Freie Schlagwörter
Beschichtungserfolg
Dünnschichtoptik
Oszillatormodell
Schwingquarz
breitband optisches Monitoriersystem
Klassifikation (DDC)
530
Normschlagwörter (GND)
Beschichtung
Computersimulation
Oberflächenveredelung
GutachterIn
Prof. Dr. Karl Heinz Hoffmann
Dr. rer. nat. hab. Olaf Stenzel
Verlag
Fraunhofer Institut für angewandte Optik und Feinmechanik, Chemnitz
Den akademischen Grad verleihende / prüfende Institution